Heute schon setzen viele amerikanische Top-Universitäten auf die 3D Mikrofabrikationstechnologie von Nanoscribe, wie beispielsweise die Harvard University und Boston University in Massachusetts sowie die Stanford University oder das California Institute of Technology in Kalifornien. Neben dem stetigen Ausbau der Beziehungen zum Wissenschafts- und Forschungsmarkt soll nun, ausgehend von ersten namhaften Pionierkunden, die Marktdurchdringung im industriellen Umfeld forciert werden. Geschäftsführer Martin Hermatschweiler sieht in den USA einen starken Absatzmarkt mit Wachstumspotenzial. „Von Boston aus können wir nun noch agiler auf Wünsche unserer Kunden reagieren und ihnen den bestmöglichen Support bieten“, sagt Hermatschweiler, der als General Manager die US-Tochter leiten wird.
Nach der 2018 erfolgten Gründung einer Tochtergesellschaft in China setzt das deutsche Hightech-Unternehmen Nanoscribe mit der Eröffnung der US-Niederlassung seine Internationalisierungsstrategie weiter fort. Zahlreiche Produkt-Auszeichnungen wie der Prism Award und jüngst der Innovation Award der Laser World of Photonics 2019 sowie diverse Unternehmenspreise unterstreichen die Erfolgsgeschichte der 2007 aus dem Karlsruher Institut für Technologie (KIT) ausgegründeten Firma. Mit über 70 Mitarbeitern möchte der Weltmarkt- und Technologieführer im Bereich der 3D-Mikrofabrikation den Fokus in Zukunft verstärkt auf Lösungen für die industrielle Fertigung legen.
Dazu passend hat Nanoscribe seit kurzem mit Quantum X ein komplett neuentwickeltes maskenloses Lithografiesystem in seinem Portfolio. Quantum X profitiert als erstes reinrassiges Industrie-Gerät von der zum Patent angemeldeten Zwei-Photonen Graustufen-Lithografie (2GL) und wurde speziell für die Fertigung anspruchsvoller mikrooptischer Komponenten entwickelt. Das additive Fertigungsverfahren 2GL kombiniert die außerordentliche Performance der Graustufen-Lithografie mit der Präzision und Flexibilität der von Nanoscribe kontinuierlich weiterentwickelten Zwei-Photonen-Polymerisation (2PP). „Mit Quantum X stellen wir Anwendern ein hoch leistungsfähiges und extrem präzises Fertigungsverfahren bereit, das bisherige Beschränkungen in Designfreiheit, Präzision und Durchsatz überwindet“, erläutert Hermatschweiler.
Dadurch werden beispielsweise Design-Iterationszyklen für die Fertigung funktionaler Prototypen sowie Master drastisch verkürzt, wodurch sich der gesamte Herstellungsprozess zeit- und kosteneffektiver gestaltet. Dies ist insbesondere für die Herstellung refraktiver sowie diffraktiver mikrooptischer Komponenten interessant, welche beispielsweise in den Bereichen Augmented Reality, der Sensorik sowie der Informations- und Kommunikationstechnologie benötigt werden. Die additiv hergestellten mikrostrukturierten Oberflächen werden entweder direkt verwendet oder als Master in die Prozesskette einer abformenden Serienproduktion integriert.